韩国简化EUV光刻机进口流程，审批时间缩短至9天

韩国政府近期通过了一项法规修订案，旨在优化半导体核心设备——极紫外光刻机的进口管理流程。此举被视为该国为强化半导体产业竞争力而推出的具体行政支持措施。

根据韩国产业通商资源部的公告，新修订的《高压气体安全管理法施行令》实施细则，将EUV光刻机归类为“特定设备”进行管理。这一分类调整直接简化了原先繁琐的审批与检查环节。

流程大幅精简，时间与成本双降

在原有的管理框架下，EUV光刻机因其内部的高压气体管道和装置，被归类为“高压气体制造设备”。每台设备的导入都需要经历长达

的流程，具体包括15天的技术审查、5天的许可、7天的中间检查以及7天的竣工核验。

新规实施后，流程得到了显著压缩。技术审查与竣工核验的时间均被缩短至2天，并且取消了原先必须由海外认可机构执行的中间检查环节。这使得整体流程时间从34天减少到

，为企业节省了多达25天的等待时间。

为企业减负，提升产业效率

除了时间成本的大幅降低，新规还为相关企业带来了直接的经济效益。此前，每台EUV光刻机所需的中间检查费用高昂，大约为

（约合224.8万元软妹币）。随着该环节的取消，这笔开支得以节省。

这一政策调整预计将降低三星电子、SK海力士等韩国半导体巨头在引进尖端制造设备时的行政负担与资金成本，有助于它们更灵活、快速地部署先进产能，以应对全球半导体市场的激烈竞争。这反映了韩国政府通过优化监管环境来支持关键产业发展的思路。