ASML High NA EUV 光刻机首批组件抵达纽约州奥尔巴尼纳米技术综合体

7月21日，ASML的High NA EUV光刻机首批组件正式抵达美国纽约州奥尔巴尼纳米技术综合体——这可不是什么小打小闹的物流事件，而是半导体制造领域的一个关键节点。路透社从纽约州州长办公室拿到的消息，证实了这批“大家伙”的欧洲之旅已经进入最后一程。

从综合体监管方NY Creates在社交媒体上晒出的照片来看，这批组件在当地时间昨天就已经踏上了前往综合体的最后一段路。换句话说，这台下一代光刻机离正式落地只差临门一脚。

NY Creates的CEO Da ve Anderson对这个项目寄予厚望。他特意强调，奥尔巴尼纳米技术综合体是北美唯一的同类设施，规模和定位都跟比利时的imec不相上下。在他看来，这台High NA EUV光刻机“真的会改变我们未来的业务版图，以及美国的研发活动”——顺便说一句，他直言“我们实际上正处于下一代技术发展的正中心”。这话听起来有点豪迈，但放在全球半导体竞争的背景下，确实不是空xue来风。