三星率先交付12层HBM4E样品,AI内存性能提升超20%
在AI算力竞赛持续白热化的背景下,核心存储部件的技术迭代正成为关键战场。近日,三星电子宣布已开始向全球主要客户交付业内首批12层48GB HBM4E样品,标志着下一代高带宽存储器(HBM)的商用进程迈出关键一步。

HBM是AI加速芯片(如GPU)的核心配套部件,其带宽与容量直接决定了大规模AI训练与推理的效率。当前市场由三星、SK海力士和美光三巨头主导。三星此次率先交付HBM4E样品,旨在巩固其在高端AI内存市场的地位,并回应竞争对手的快速追赶。
技术规格与性能跃升
据三星介绍,这款12层HBM4E是HBM4的迭代升级产品。它采用了三星第六代10纳米级(1c)DRAM工艺,并整合了三星晶圆代工的4nm逻辑基片。与上一代HBM4相比,HBM4E在多个维度实现了显著提升。
在核心性能上,HBM4E可提供稳定的14 Gbps引脚传输速度,并可扩展至16 Gbps。
整体性能提升超过20%,每个堆栈的内存带宽高达3.6 TB/s
能效与散热优化
除了性能与容量,能效和散热对于高负载的AI数据中心至关重要。三星通过低功耗设计与先进的封装优化,使HBM4E的能效提升了16%。同时,热阻改善了超过14%,散热效率得到显著增强,有助于降低数据中心在高强度AI运算下的整体能耗与冷却成本。
在完成初步样品交付与客户端的优化测试后,三星将根据客户的具体进度安排,启动HBM4E的量产工作。三星自2015年进入HBM赛道,产品已历经十代迭代,并于2026年2月率先实现了HBM4的量产。
市场竞争格局
当前HBM市场呈现三足鼎立、激烈竞争的态势。作为当前市场份额的领导者,SK海力士的HBM4已于2025年9月量产;其HBM4E计划于2026年下半年送样、2027年量产,将采用基于1c nm制程的DRAM裸片,基础裸片则由台积电以3nm工艺生产。
另一巨头美光方面,其HBM4产能爬坡进展顺利,并计划于2027年量产HBM4E。据悉,美光的HBM4E将采用其10纳米级第六代1γ工艺,这将是美光首次在量产工艺中引入EUV光刻设备,其基础裸片同样委托台积电制造。三大厂商的技术路线与量产时间表,预示着未来几年AI内存市场的竞争将更加激烈。