北方华创“进气装置及半导体设备”专利公布

北方华创微电子装备有限公司一项名为“进气装置及半导体设备”的专利于2025年2月14日公开，申请公布号为cn119433507a。天眼查信息显示，该专利设计了一种新型进气装置。

该装置包含匀流结构和气体分配结构两部分。匀流结构由多个环形匀流腔和与其相连的进气管道构成，其外环侧面均匀分布着多个第一出气孔。气体分配结构则由多个与匀流腔同轴的环形配气腔组成，外周表面非均匀分布着多个第二出气孔。 气体分配结构可在第一位置和第二位置之间移动：第一位置时，它环绕匀流结构外周，配气腔进气端与第一出气孔密封连接，气体经第二出气孔非均匀排出；第二位置时，它与匀流结构错开，使第一出气孔暴露于半导体工艺腔室，实现均匀出气。 此设计旨在优化半导体设备的气体输送和分配。